台基（jī）半導體股份有限公司高純水係統采用雙級反滲透+混合床+拋光混合床工藝，產水電阻率18MΩ·CM以上，全不鏽（xiù）鋼（gāng）拋光設備，產水量40m3/h。現場設備運行圖片如下：

預處理（lǐ）及反滲透設備

預處理工藝為砂濾器+炭濾器+軟化器

軟化器及再生裝置

雙級（jí）反滲透設備，全觸摸屏自動控製

後處理為混合床+拋光混床組

高純水電阻率大於18MΩ·CM